化学吸附仪-安益谱小分子质谱联用（TPD-MS）
技术原理
TPD-MS联用技术将化学吸附仪的温度程序控制与质谱的实时气体分析能力相结合，实现催化剂表面化学过程的分子层面解析。
RGA 6500 在 TPD-MS 中的核心优势
| 技术特性 | TPD-MS 应用价值 |
|---|---|
| 200℃全金属腔体 | 化学吸附产物可能含高沸点物质，高温腔体防止冷凝"丢峰" |
| 316L不锈钢材质 | 耐NH₃、H₂S、HCl等腐蚀性脱附产物 |
| 无油真空系统 | 避免油蒸气本底干扰，确保脱附产物信号真实 |
| ≤100 ms响应速度 | 与TPD升温程序精确同步，捕捉快速脱附事件 |
| 双曲面四极杆 | 区分邻近质量数 |
| 全量程真空规 | 实时监控接口真空状态，确保传输效率 |
| Modbus/Profibus接口 | 直接对接化学吸附仪控制系统，数据同步 |
核心应用领域
催化剂活性位点表征（TPD）
催化剂还原行为研究（TPR）
催化剂氧化/积碳研究（TPO）
反应机理研究（原位TPD-MS）
总结
